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Technical Physics期刊
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Technical Physics

SCIE

《Technical Physics》创刊于1997年,是一本物理与天体物理国际学术期刊,出版语言为English,年发文量206。预计审稿周期约 一般,3-6周 ,近三年曾被列入预警期刊名单。

中科院 4区
JCR Q4
Citescore 1.3
TOP期刊
ISSN: 1063-7842
出版地区: RUSSIA
E-ISSN: 1090-6525
出版周期: Monthly
出版商: Pleiades Publishing
创刊时间: 1997年
国际简称: TECH PHYS+
出版语言: English
研究方向: 物理-物理:应用
中文名称: 技术物理

Technical Physics杂志简介

《Technical Physics》由Pleiades Publishing出版社出版,是物理:应用领域的国际权威期刊。自1997年创刊以来,该刊始终致力于发表物理与天体物理领域的原创性、前瞻性研究成果,尤其关注物理与天体物理领域的理论、政策与实践。该刊被SCIE数据库收录,在JCR学科,按JIF指标学科分区学科“PHYSICS, APPLIED”中位于Q4区;按JCI指标学科分区学科“PHYSICS, APPLIED”中位于Q4区;中国科学院期刊分区为大类物理与天体物理4区,小类物理:应用4区。此外,在CiteScore学科分类中,该刊在“Physics and Astronomy (miscellaneous)”小类中位列Q3区,排名56 / 81,显示出在物理:应用领域的突出影响力。

作为一本非开放获取期刊,《Technical Physics》2023年发文量在206篇,研究类论文占比为100.00%。期刊最新影响因子为1.1 ,CiteScore为1.3,学术影响力持续稳健。该刊面向全球研究者,为探讨物理:应用领域提供了高水平的学术交流平台。

WOS期刊JCR分区(2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 152 / 179

15.4%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 170 / 179

5.31%

CiteScore(2025年最新版)

CiteScore数据趋势图

  • CiteScore:1.3
  • SJR:0.303
  • SNIP:0.37
学科 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Physics and Astronomy (miscellaneous) Q3 56 / 81

31%

Technical Physics中国科学院期刊分区

中国科学院期刊分区趋势图

中国科学院期刊分区 (2023年12月升级版)

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理
4区
PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区

中国科学院期刊分区 (2022年12月升级版)

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理
4区
PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区

中国科学院期刊分区 (2021年12月旧的升级版)

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理
4区
PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区

Technical Physics高引用文章

  • In Situ Modification and Analysis of the Composition and Crystal Structure of a Silicon Target by Ion-Beam Methods

    引用次数:7

  • Lasing in 9.6-m Quantum Cascade Lasers

    引用次数:6

  • Melting Behaviour of Fractal-Shaped Nanoparticles (the Example of Si-Ge System)

    引用次数:5

  • Turn-on Dynamics of Quantum Cascade Lasers with a Wavelength of 8100 nm at Room Temperature

    引用次数:5

  • Phonon Thermal Conductivity and Phase Equilibria of Fractal Bi-Sb Nanoparticles

    引用次数:5

  • Magnetoelastic Waves in Submicron Yttrium-Iron Garnet Films Manufactured by Means of Ion-Beam Sputtering onto Gadolinium-Gallium Garnet Substrates

    引用次数:4

  • Ten Approaches to Define the Field Emission Area

    引用次数:4

  • Dynamics of the Initial Stage of the Spark and Diffuse Discharges in Air in a Point-Plane Gap at Different Parameters of the Tip Electrode

    引用次数:4

  • Flexomagnetic and Flexoantiferromagnetic Effects in Centrosymmetric Antiferromagnetic Materials

    引用次数:4

  • Development of Technological Principles for Creating a System of Microfocus X-Ray Tubes Based on Silicon Field Emission Nanocathodes

    引用次数:4

Technical Physics学术指标

年份 影响因子 年发文量 引文指标 自引率 CiteScore
2023 1.1 - 206 - 0.13 - 18.2 - 1.3 -
2022 0.7 - 168 - 0.12 - 14.3 - 1.4 -
2021 0.489 - 79 - 0.11 - 5.5 - 1.3 -
2020 0.654 - 308 - - 21.9 - 1.3 -
2019 0.603 - 307 - - 22.2 - 1.3 -
2018 0.637 - 303 - - 20.1 - 1.3 -
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